微波等离子模块-批处理微波等离子体系统BPS
微波等离子模块-批处理微波等离子体系统BPS



批处理微波等离子体系统由微波源,等离子腔,环形器和三销钉调谐器组成,有固态微波源和磁控管电源两种版本可选,是等离子清洗设备、蚀刻设备、去胶设备和镀膜设备的核心部件,搭载在等离子表面处理设备上通过把电能转化为微波能将输入气体(Ar、O2、H2、CF4等)激发成物质的第四种状态-等离子状态从而对目标物质的表面进行清洗去胶蚀刻改性等处理,广泛应用于半导体制造前后道工艺中对晶圆表面的处理,高价值无机材料金属材料等的表面清洁.



BPS 1.25 技术参数

项目

固态源版本

磁控管版本

长*宽*高

(辐射模块)              

490mm*390mm*128mm

490mm*390mm*128mm

腔体体积

106L

106L

输出功率

1.0kW

1.25kW

输出频率

2450MHz±25MHz

2450MHz±25MHz

频率误差

±50ppm

±50ppm

微波泄露

≤2mW/cm2

≤2mW/cm2

供电电压

AC380V±10%

AC380V±10%

供电频率

50Hz±2Hz

50Hz±2Hz

进/出水口

1/8宝塔接头

DN15

冷却方式

电源: 水冷(1/8宝塔接头,水流量≥2.5L/min,进水温度小于环境温度时,两者温度差≤10°C)

辐射模块: 可选水冷/风冷

电源: 水冷(1/8宝塔接头,水流量≥2.5L/min,进水温度小于环境温度时,两者温度差≤10°C)

辐射模块: 可选水冷/风冷

控制接口

RS485通信协议

具备本地触摸屏控制及远程通讯功能,MODBUS RTU 标准通讯协议,9600,N,8,1

工艺气体

Ar、O2、H2、CF4等

Ar、O2、H2、CF4等

 
BPS 3.0技术参数

项目

固态源版本

磁控管版本

长*宽*高

(辐射模块)             

490mm*390mm*128mm

490mm*390mm*128mm

腔体体积

106L

106L

输出功率

3kW

3kW

输出频率

2450MHz±25MHz

2450MHz±25MHz

频率误差

±50ppm

±50ppm

微波泄露

≤2mW/cm2

≤2mW/cm2

供电电压

AC380V±10%

AC380V±10%

供电频率

50Hz±2Hz

50Hz±2Hz

进/出水口

1/8宝塔接头

DN15

冷却方式

电源: 水冷(1/8宝塔接头,水流量≥2.5L/min,进水温度小于环境温度时,两者温度差≤10°C)

辐射模块: 水冷

电源: 水冷(1/8宝塔接头,水流量≥2.5L/min,进水温度小于环境温度时,两者温度差≤10°C)

辐射模块: 水冷

控制接口

RS485通信协议

具备本地触摸屏控制及远程通讯功能,MODBUS RTU 标准通讯协议,9600,N,8,1

工艺气体

Ar、O2、H2、CF4等

Ar、O2、H2、CF4等





  应用行业:半导体,光伏产业,汽车,医疗,其它工业,科研

               适用产品:等离子清洗机,等离子去胶机,等离子刻蚀机,镀膜设备

                       处理材料:晶圆,ALD材料,LCD屏,无机材料,橡胶材料,玻璃材料,高分子材料,汽车零器件