微波等离子模块-批处理微波等离子体系统BPS
微波等离子模块-批处理微波等离子体系统BPS



批量处理微波等离子体系统(BPS)专为大批量工件的等离子体处理设计,采用标准腔体结构,可一次性完成多件工件的清洗、活化、去氧化等工艺。系统结合ECR技术,可深入处理微小缝隙与深腔结构,兼具高效批量处理能力与精密处理效果,是半导体封装、LED制造等规模化生产场景的优选方案。

技术特点

  • 批量高效处理:标准腔体可容纳多工件同时处理,大幅提升生产效率,处理时间<15分钟/批次
  • 均匀性优异:整批工件处理效果一致性好,良率高,适合规模化量产
  • 无静电损伤:等离子体整体呈电中性,无自偏压,有效保护精密电路与敏感器件
  • 深腔缝隙处理:结合ECR技术,可深入处理最小70μm间隙的表面,覆盖复杂结构工件
  • 低成本运维:单位工件能耗低,无电极损耗,维护简单,适合规模化生产
  • 灵活定制:支持功率(1kW/1.25kW/3kW)、ECR结构、腔体尺寸等按需定制
  • 双馈源可选:提供固态微波源和磁控管微波源两种版本,适配不同预算与精度需求




BPS 1.25 技术参数

项目

固态源版本

磁控管版本

长*宽*高

(辐射模块)              

490mm*390mm*128mm

490mm*390mm*128mm

腔体体积

106L

106L

输出功率

1.0kW

1.25kW

输出频率

2450MHz±25MHz

2450MHz±25MHz

频率误差

±50ppm

±50ppm

微波泄露

≤2mW/cm2

≤2mW/cm2

供电电压

AC380V±10%

AC380V±10%

供电频率

50Hz±2Hz

50Hz±2Hz

进/出水口

1/8宝塔接头

DN15

冷却方式

电源: 水冷(1/8宝塔接头,水流量≥2.5L/min,进水温度小于环境温度时,两者温度差≤10°C)

辐射模块: 可选水冷/风冷

电源: 水冷(1/8宝塔接头,水流量≥2.5L/min,进水温度小于环境温度时,两者温度差≤10°C)

辐射模块: 可选水冷/风冷

控制接口

RS485通信协议

具备本地触摸屏控制及远程通讯功能,MODBUS RTU 标准通讯协议,9600,N,8,1

工艺气体

Ar、O2、H2、CF4等

Ar、O2、H2、CF4等

 
BPS 3.0技术参数

项目

固态源版本

磁控管版本

长*宽*高

(辐射模块)             

490mm*390mm*128mm

490mm*390mm*128mm

腔体体积

106L

106L

输出功率

3kW

3kW

输出频率

2450MHz±25MHz

2450MHz±25MHz

频率误差

±50ppm

±50ppm

微波泄露

≤2mW/cm2

≤2mW/cm2

供电电压

AC380V±10%

AC380V±10%

供电频率

50Hz±2Hz

50Hz±2Hz

进/出水口

1/8宝塔接头

DN15

冷却方式

电源: 水冷(1/8宝塔接头,水流量≥2.5L/min,进水温度小于环境温度时,两者温度差≤10°C)

辐射模块: 水冷

电源: 水冷(1/8宝塔接头,水流量≥2.5L/min,进水温度小于环境温度时,两者温度差≤10°C)

辐射模块: 水冷

控制接口

RS485通信协议

具备本地触摸屏控制及远程通讯功能,MODBUS RTU 标准通讯协议,9600,N,8,1

工艺气体

Ar、O2、H2、CF4等

Ar、O2、H2、CF4等





  • 半导体封装:引线框架(铜/合金)批量清洗、去氧化、表面活化
  • LED封装:支架/基板批量清洗、固晶前预处理、焊盘表面改性
  • 陶瓷与玻璃基片:批量清洗、活化、镀膜前预处理
  • PCB与电路板:批量去胶、孔金属化前处理、表面清洁活化
  • 精密电子元器件:批量微结构清洗、表面钝化、表面改性